CVD

CVDとは、IC等の製造工程で、基板上にシリコンなどの薄膜を作る工業的手法。シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、アモルファスシリコン薄膜などの製造に用いられる。その過程で化学反応を用いるので、このように呼ばれる。　原料物質を含むガスに、熱や光によってエネルギーを与えたり、高周波でプラズマ化したりすることにより、原料物質がラジカル化して反応性に富むようになり、基板上に吸着されて堆積する。　温度を上げて堆積させるものを「熱CVD」、化学反応や熱分解を促進させるために光を照射するものを「光CVD」、ガスをプラズマ状態に励起する方法を「プラズマCVD」という。　これに対して、物理的な過程によって薄膜を堆積させる方法を「PVD」(Physical vapor deposition：物理気相成長法)という。



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